微泰半導體閘閥具有諸多特點：其閥門驅動部分的所有滾子和軸承都經過精心防護處理，形成屏蔽和保護環（Shield Blocker 和 Protection Ring），通過三重預防方式有效切斷粉末（Powder），從而延長閥門驅動及使用壽命。該閘閥采用的三重預防驅動方式中的 Shield 功能，能夠出色地防止氣體和粉末侵入閥體內部，同時具備三重保護驅動保護環，可延長 GV 壽命的 Shield 方法，并已供應給海外半導體 T 公司、M 公司和 I 公司的 Utility 設備。此外，擋板與閥體之間的距離小于 1mm，能夠強力阻擋內部粉末和氣體的流入，屏蔽擋板采用 1.5t AL 材料制成，充分考慮了其復原力，并通過 Viton 粉末熱壓工藝制成。而三重保護保護環的主要功能則包括：AL 材料的重量減輕和保護環內部照明的改善、保護環內部流速的增加以及三元環的應用確保了驅動性能的提升。微泰高壓閘閥的特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。手動閘閥蝶形控制閥

微泰半導體閘閥具有獨特的特點：其插板閥主滑閥采用球機構方式，并且在量產工藝設備上經過了性能驗證。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷與金屬接觸驅動時不會產生顆粒。目前已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導體，日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨，且品質得到認可，同時也完成了對半導體 Utility 設備和批量生產設備的驗證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅動會產生大量顆粒不同，微泰半導體閘閥采用鋼陶瓷球，在與金屬摩擦時不會損壞，且金屬與陶瓷球之間不會產生 Particle。半永久板簧（SUS 鋼板）的應用確保了閥門驅動的同步性，同時還采用了固定球導向器和鋼陶瓷。微泰半導體閘閥廣泛應用于 Evaporation（蒸發）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVIA閘閥、VAT 閘閥。此外，該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。高壓閘閥閘板閥閘閥形體簡單，結構長度短，制造工藝性好，適用范圍廣。

微泰，控制系統閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是? 主體材質：不銹鋼? 緊湊型設計? 帶步進電機的集成壓力控制器? 應用：需要壓力控制和隔離的地方。控制系統閘閥規格如下：法蘭尺寸（ID）：1.5英寸~ 10英寸、材料：閥體(STS304)/機構STS304、STS420、饋通：旋轉饋通、執行器：步進電機、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍：1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護前可用次數：100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置：任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，上海安宇泰環保科技有限公司。

微泰，多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。微泰多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥其特點是?操作模式：本地和遠程?緊急情況：自動關閉?慢速泵送功能。多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥規格如下：材料：閥體 STS304， 機制 STS304、法蘭尺寸(內徑) 4英寸~10英寸、閘門密封 FKM(VITON)、開/關振動 無振動、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、閘門壓差 ≤1.4 bar、分子流動電導（ISO100）1891 l/s、閥座 1X10-10 mbar?L/秒、泄漏率閥體 1X10-10 mbar?L/Sec、壓力范圍 1X10-10mbar 至 1.4 bar、閘門上任一方向的壓差≤1.4 bar、安裝位置：任意。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，上海安宇泰環保科技有限公司。 閘閥多應用于石油、天然氣等輸送管線上，在半導體加工工程設備上也多用閘閥。

微泰半導體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當閘板升起時，閘閥打開，允許流體通過；當閘板降下時，閘閥關閉，阻止流體通過。在具體工作中，它利用各種機構和設計來實現精確的控制和可靠的密封，以滿足半導體設備中對工藝控制的要求。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。控制系統和蝶閥使用步進電機操作，而多定位閘閥使用氣動控制操作。化學氣相沉積閘閥

高壓閘閥結構簡單，制造和維修比較方便。工作行程小，啟閉時間短。密封性好，密封面間磨擦力小，壽命較長。手動閘閥蝶形控制閥

微泰，專門用閘閥應用于? Evaporation? Sputtering? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating? Etch? Diffusion（擴散）?CVD等設備上。可替代VAT閘閥。期特點是*使用維修配件工具包易于維護*將電磁閥和位置傳感器連接到15針D-Sub*鎖定功能*限位開關*?速度控制器&電磁閥（2Port+N2Port）用不銹鋼管連接（φ6）*應用:泵隔離,產品工藝水平要求高的地方。專門用閘閥規格如下：驅動方式：氣動、法蘭尺寸：4英寸~ 8英寸、法蘭類型：ISO, JIS, ASA, CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封：Viton O型圈、響應時間：≤ 0.3 sec ~2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：4? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護前可用次數：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、Micron,Global Foundries、英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體業績。

手動閘閥蝶形控制閥