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吉田半導體厚板光刻膠 JT-3001：國產技術助力 PCB 行業升級 JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻，成為國產 PCB 電路板制造推薦材料。 吉田半導體自主研發的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率 1.5μm，抗深蝕刻...

依托自主研發與國產供應鏈，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%，躋身國內前段企業。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產樹脂與單體，實現 100% 國產化替代。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm，性能優于 JSR 的 AR-...

半導體集成電路 ? 應用場景： ? 晶圓制造：正性膠為主（如ArF/EUV膠），實現20nm以下線寬，用于晶體管柵極、接觸孔等精細結構； ? 封裝工藝：負性膠用于凸點（Bump）制造，厚膠（5-50μm）耐...

國家戰略支持 《國家集成電路產業投資基金三期規劃》將光刻膠列為重點投資領域，計劃投入超500億元支持研發。工信部對通過驗證的企業給予稅收減免和設備采購補貼，單家企業比較高補貼可達研發投入的30%。 地方產業協同 濟南設...

客戶需求導向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優化的全流程技術支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優勢。 快速交付與售后支持 作為國內廠商，吉田半導體依托松山湖產業集群資源，交貨周期較...

綠色制造與循環經濟 公司采用水性光刻膠技術，溶劑揮發量較傳統產品降低60%，符合歐盟REACH法規和國內環保標準。同時，其光刻膠廢液回收項目已投產，通過膜分離+精餾技術實現90%溶劑循環利用，年減排VOCs（揮發性有機物）超100噸。 ...

上游原材料： ? 樹脂：彤程新材、鼎龍股份實現KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成，金屬雜質含量<5ppb（國際標準<10ppb）。 ? 光引發劑：久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產酸劑，累計形成噸級訂單；威邁芯材合肥基...

國家大基金三期：注冊資本3440億元，明確將光刻膠列為重點投資領域，計劃投入超500億元支持樹脂、光引發劑等原料研發，相當于前兩期投入總和的3倍。 地方專項政策：湖北省對通過驗證的光刻膠企業給予設備采購補貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程...

綠色制造與循環經濟 公司采用水性光刻膠技術，溶劑揮發量較傳統產品降低60%，符合歐盟REACH法規和國內環保標準。同時，其光刻膠廢液回收項目已投產，通過膜分離+精餾技術實現90%溶劑循環利用，年減排VOCs（揮發性有機物）超100噸。 ...

關鍵工藝流程 涂布： ? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠，厚度控制在0.1-5μm（依制程精度調整），需均勻無氣泡（旋涂轉速500-5000rpm）。 前烘（Soft Bake）： ...

光伏電池（半導體級延伸） ? HJT/TOPCon電池：在硅片表面圖形化金屬電極，使用高靈敏度光刻膠（曝光能量≤50mJ/cm2），線寬≤20μm，降低遮光損失。 ? 鈣鈦礦電池：用于電極圖案化和層間隔離，需耐有機溶劑（適...

生產設備與工藝：從設計到制造的“木桶效應” 前端設備的進口依賴 光刻膠生產所需的超臨界流體萃取設備、納米砂磨機等關鍵裝備被德國耐馳、日本光洋等企業壟斷。國內企業如拓帕實業雖推出砂磨機產品，但在研磨精度（如納米...

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。 UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g。適用于需要...

公司嚴格執行 ISO9001:2008 質量管理體系與 8S 現場管理標準，通過工藝革新與設備升級實現生產過程的低污染、低能耗。注塑廢氣、噴涂廢氣經多級凈化處理后達標排放，生活污水經預處理后納入市政管網，冷卻水循環利用率達 100%。危險廢物（如廢機油、含...

全品類覆蓋與定制化能力 吉田半導體的光刻膠產品覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠等全品類，適用于半導體、顯示面板、MEMS等多個領域。例如，其LCD正性光刻膠YK-200和水油光刻膠JT-2001可滿足0.45μm及以上線寬需求，支持客戶...

公司嚴格執行 ISO9001:2008 質量管理體系與 8S 現場管理標準，通過工藝革新與設備升級實現生產過程的低污染、低能耗。注塑廢氣、噴涂廢氣經多級凈化處理后達標排放，生活污水經預處理后納入市政管網，冷卻水循環利用率達 100%。危險廢物（如廢機油、含...

綠色制造與循環經濟 公司采用水性光刻膠技術，溶劑揮發量較傳統產品降低60%，符合歐盟REACH法規和國內環保標準。同時，其光刻膠廢液回收項目已投產，通過膜分離+精餾技術實現90%溶劑循環利用，年減排VOCs（揮發性有機物）超100噸。 ...

客戶需求導向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優化的全流程技術支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優勢。 快速交付與售后支持 作為國內廠商，吉田半導體依托松山湖產業集群資源，交貨周期較...

定義與特性 正性光刻膠是一種在曝光后，曝光區域會溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案一致的圖形。與負性光刻膠（未曝光區域溶解）相比，其優勢是分辨率高、圖案邊緣清晰，是半導體制造（尤其是制程）的主流選擇。 ...

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝...

差異化競爭策略 在高級市場（如ArF浸沒式光刻膠），吉田半導體采取跟隨式創新，通過優化現有配方（如提高酸擴散抑制效率）逐步縮小與國際巨頭的差距；在中低端市場（如PCB光刻膠），則憑借性價比優勢（價格較進口產品低20%-30%）快速搶占份額，2023...

廣東吉田半導體材料有限公司以全球化視野布局市場，通過嚴格的質量管控與完善的服務體系贏得客戶信賴。公司產品不僅通過 ISO9001 認證，更以進口原材料和精細化生產流程保障品質，例如錫膏產品采用無鹵無鉛配方，符合環保要求，適用于電子產品制造。其銷售網絡覆蓋全...

主要原材料“卡脖子”：從樹脂到光酸的依賴 樹脂與光酸的技術斷層 光刻膠成本中50%-60%來自樹脂，而國內KrF/ArF光刻膠樹脂的單體國產化率不足10%。例如，日本信越化學的KrF樹脂純度達99.999%，金屬雜質含量低于1...

光刻膠的納米級性能要求 超高分辨率：需承受電子束（10keV以上）或EUV（13.5nm波長）的轟擊，避免散射導致的邊緣模糊，目前商用EUV膠分辨率已達13nm（3nm制程）。 低缺陷率：納米級結構對膠層中的顆?；蚧瘜W不...

吉田半導體柯圖泰全系列感光膠：進口品牌品質，本地化服務支持 柯圖泰全系列感光膠依托進口技術，提供高性價比的絲網印刷解決方案。 吉田半導體代理的柯圖泰全系列感光膠（如 PLUS 6000、Autosol 2000），源自美國先進配方，分辨率達 120 ...

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。 厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年。適...

吉田半導體的自研產品已深度融入國內半導體產業鏈： 芯片制造：YK-300 光刻膠服務中芯國際、長江存儲，支持國產 14nm 芯片量產。 顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達 15%，成為京東方、華星光電戰略合作伙伴。 ...

企業定位與資質 ? 成立背景：深耕半導體材料行業23年，位于松山湖經濟技術開發區，注冊資本2000萬元，是國家高新技術企業、廣東省專精特新企業及廣東省創新型中小企業。 ? 質量體系：通過ISO9001:2008認證，...

國家戰略支持 《國家集成電路產業投資基金三期規劃》將光刻膠列為重點投資領域，計劃投入超500億元支持研發。工信部對通過驗證的企業給予稅收減免和設備采購補貼，單家企業比較高補貼可達研發投入的30%。 地方產業協同 濟南設...

吉田半導體柯圖泰全系列感光膠：進口品牌品質，本地化服務支持 柯圖泰全系列感光膠依托進口技術，提供高性價比的絲網印刷解決方案。 吉田半導體代理的柯圖泰全系列感光膠（如 PLUS 6000、Autosol 2000），源自美國先進配方，分辨率達 120 ...