維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價比光束質量檢測解決方案，涵蓋掃描狹縫式、相機式及 M2 測試模塊三大產品線： 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內的刀口 / 狹縫雙模式切換技術，支持 190-2700nm 寬光譜范圍，可測量 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率實現亞微米級光斑細節捕捉。創新狹縫物理衰減機制使其無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光，適用于激光加工等高能量場景。 相機式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段，支持 2D/3D 實時成像與動態分析，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）。獨特的六濾光片轉輪設計實現功率范圍擴展，可拆卸結構支持科研成像功能拓展。 M2 測試模塊適配全系產品，通過 ISO 11146 標準算法測量光束傳播參數（M2 因子、發散角、束腰位置等），結合 BeamHere 軟件實現一鍵生成報告、多參數同步分析。系統以模塊化設計滿足光通信、醫療、工業等領域的光斑檢測需求，兼顧實驗室與產線在線監測場景。激光發散角怎么測，維度光電M2測量系統。準直器生產光斑分析儀優勢

維度光電深刻認識到高功率光束檢測在激光應用中的性和難度。大多數光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和，而常規激光器功率普遍較高，這使得大功率光束檢測成為激光應用的難點。為解決這一問題，維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創新的狹縫物理衰減機制，可直接測量近 10W 高功率激光，保障了測試過程的安全與高效。為應對更高功率，又推出單次和雙次取樣配件，可疊加使用形成多次取樣系統。搭配合適衰減片，可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1，取樣率 4% - 5%，采用 45° 傾斜設計和 C 口安裝，有鎖緊環可固定在任意方向測量不同角度入射激光；雙次取樣配件 DL - LBA - 2，取樣率 0.16% - 0.25%，內部兩片取樣透鏡緊湊安裝，能應對 400W 功率光束，多面體結構便于工業或實驗環境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度，實現更高功率激光測量。同時，其緊湊結構設計的取樣光程滿足聚焦光斑測量，單次 68mm，雙次 53mm，為激光生產提供了強大的檢測支持。近紅外光斑分析儀測量掃描和狹縫光斑分析儀怎么選？

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測量光束質量參數，為激光技術在多領域的高效應用提供支撐。工業加工中，其亞微米級光斑校準能力幫助優化切割、焊接與打標工藝，確保光束輪廓一致性，保障加工質量。醫療領域用于眼科準分子激光手術設備校準，實時監測光束能量分布，確保手術安全性。科研場景中支持皮秒級脈沖激光測量，為物理與材料提供高精度數據，推動新型激光器件。光通信領域可實現光纖端面光斑形態分析，保障光信號傳輸穩定性。農業與生命中，通過分析激光誘變育種光束參數，優化植物生長調控效率。全系產品覆蓋200-2600nm寬光譜，支持千萬級功率測量，結合M2因子測試模塊與AI分析軟件，為各行業提供從光斑形態到傳播特性的全鏈路檢測方案，助力客戶提升產品性能與生產效率。

BeamHere 分析軟件作為組件，支持多設備協同工作：掃描數據自動校準、光斑模式智能識別、M2 因子三維重建。通過機器學習算法，可自動補償環境光干擾與溫度漂移。通過可視化界面，用戶可實時查看光斑能量分布云圖、發散角變化曲線及束腰位置動態圖，支持多參數聯動分析。軟件內置模板庫，一鍵生成包含 20 + 參數的標準化報告，支持 PDF/Excel/XML 多格式導出，并支持數據追溯與批量處理，歷史數據可自動關聯測試條件，縮短測試周期。企業版支持用戶權限分級管理與數據加密。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光質量？

維度光電-光斑分析儀的使用 科研場景 將 BeamHere 安裝在飛秒激光實驗平臺，使用觸發模式同步采集單脈沖光斑。 通過軟件 "時間序列分析" 功能，觀察脈沖序列中光斑形態變化。 調用 "光束質量評估" 模塊，計算啁啾脈沖的 M2 因子演變曲線。 在 "用戶自定義" 界面添加波長、脈寬等實驗參數，生成帶批注的報告。 工業場景 在激光切割設備光路中插入 BeamHere，選擇 "在線監測" 模式。 實時顯示光斑橢圓率、能量分布均勻性等參數。 當檢測到光斑漂移超過閾值時，軟件自動觸發警報并記錄異常數據。 每日生成生產質量報表，統計良品率與設備穩定性趨勢。掃描狹縫光斑分析儀有國產的嗎？維度科技光斑分析儀測量

極小光斑測量的光斑分析儀。準直器生產光斑分析儀優勢

Dimension-Labs 推出的相機式光斑分析儀系列包含兩個型號，覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍，實現可見光與近紅外波段光斑的實時顯示與分析。其優勢如下： 寬光譜覆蓋與動態分析 單臺設備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求，支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態分析。高幀率連續測量模式下，可實時捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖，為光學系統調試、動態測試及時間監控提供直觀數據支持。 復雜光斑適應性 基于面陣傳感器的成像原理，可測量非高斯分布光束（如平頂、貝塞爾光束）及含高階橫模的復雜光斑，突破傳統掃描式設備的局限性。 功率調節系統 標配 6 片不同衰減率的濾光片，通過獨特的轉輪結構實現功率范圍擴展，可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設計簡化操作流程，兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設計，光斑分析相機與濾光片轉輪可分離使用。拆卸后的相機兼容通用驅動軟件，支持科研成像、光譜分析等擴展應用，實現工業檢測與實驗室的一機多用。準直器生產光斑分析儀優勢